화학산업 하스텔로이 C4 Uns N06455 W. Nr. 2.4610 니켈 합금 스트립 8.89 G/Cm3 강한 산성 경화 저항성

제품 소개

하스텔로이 C4 스트립은 화학 산업에서 널리 사용되는 고성능 니켈 기반 합금 스트립입니다. 주요 구성 요소는 니켈 (약 65-70%), 크롬 (약 14-18%),몰리브덴 (약 14~18%), 등으로 인해 고온과 부식성 환경에서 탁월한 안정성을 보여줍니다.하스텔로이 C4 스트립은 우수한 부식 저항력을 가지고 있으며 다양한 강한 산에서 오랫동안 안정적으로 작동 할 수 있습니다., 강한 알칼리 및 소금 매체, 예를 들어 황산, 질소산, 염화산 등. 밀도는 8.64g/cm3, 녹는점은 약 1350°C ~ 1400°C입니다.그리고 높은 온도 강도와 산화 저항성이 좋습니다..
화학 산업에서 Hastelloy C4 스트립은 원자로, 열 교환기, 증류 타워, 추출 타워 및 저장 탱크와 같은 장비의 제조에 널리 사용됩니다.그것은 효과적으로 다양한 부식 매체의 침식에 저항하고 장비의 서비스 수명과 안전을 향상시킬 수 있습니다.또한, Hastelloy C4 스트립은 또한 좋은 처리 및 용접 특성을 가지고 있으며, 제조 및 설치가 쉬운 차가운 드로잉, 핫 롤링 및 용접에 의해 처리 될 수 있습니다.이 특성 들 은 Hastelloy C4 스트립 을 화학 산업 에서 부식 물질 을 처리 하는 데 이상적 인 재료 로 만든다특히 고온과 고압 환경에서

매개 변수

특정 응용 프로그램

1. 원자로 제조: 황산 및 질소산과 같은 강한 산소를 생산하는 원자로와 같은 다양한 부식 매체를 처리하는 화학 원자로 제조에 사용할 수 있습니다.그것은 강한 산의 침식 저항 할 수 있으며 장기간에 걸쳐 원자로의 안정적인 운영을 보장.
2. 열 교환기 및 증류 타워 제조: 화학 생산에서 열 교환기 및 증류 타워는 다른 화학 매체와 온도 변화에 견딜 필요가 있습니다.Hastelloy C4 스트립으로 만든 이러한 장비는 다양한 화학 환경에 적응하고 장비의 서비스 수명과 안전을 향상시킬 수 있습니다..
3. 아세트산 및 농화학 물질의 생산: 아세트산 및 농화학 물질의 생산 과정에서,하스텔로이 C4 스트립은 관련 장비와 부품 제조에 사용할 수 있습니다.원자로, 파이프 라인 등과 같은 좋은 경화 저항력이 생산 재료에 대한 엄격한 요구 사항을 충족시킬 수 있습니다.
4. 연소 가스 탈황 시스템: Hastelloy C4 스트립은 연소 가스 탈황 시스템의 주요 구성 요소를 제조하는 데 사용할 수 있습니다.연소 가스 내의 부식성 가스 및 액체에 저항하고 시스템의 작동 효율성과 안정성을 향상시킬 수 있습니다..

장점 과 특징

• 우수한 부식 저항성: 하스텔로이 C4 스트립은 산성, 알칼리성 및 소금성 미디어를 포함한 다양한 부식 매체로부터의 부식에 저항 할 수 있습니다.높은 몰리브덴 과 크롬 함유량 으로 인해 여러 화학 매개체 의 부식 에 저항 할 수 있다, 인산산, 염화산, 황산, 염소, 유기 또는 무기 염소를 함유 한 매체와 같은 환원 매체를 포함합니다.
• 높은 온도 안정성: 높은 온도 조건에서 여전히 좋은 기계적 특성과 부식 저항성을 유지합니다.그리고 800도 이상의 고온 조건에서 오랫동안 안정적으로 작동할 수 있습니다..
• 간편한 가공: 하스텔로이 C4 스트립은 열 가공과 냉 가공을 통해 다양한 모양의 부품으로 가공 될 수 있습니다.그리고 산업 생산에서 높은 유연성과 처리 특성을 가지고 있습니다..

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질문 및 답변

하스텔로이 C4 스트립의 녹는점은 얼마일까요?
하스텔로이 C4 스트립의 녹는점은 1335°C에서 1380°C까지 있습니다.

하스텔로이 C4 스트립의 주요 응용 분야는 무엇입니까?
하스텔로이 C4 스트립은 연소 가스 탈황 시스템, 오징어 및 산에 널리 사용됩니다재생 공장, 아세트산 및 농화학 생산, 티타늄 이산화탄소 생산 (클로린 공정) 및 전해질 접착.

하스텔로이 C4 스트립의 화학적 성분은 무엇입니까?
Hastelloy C4 스트립의 주요 화학 성분은 니켈 (Ni) 최소 65%, 크롬 (Cr) 14.5-17.5%, 몰리브덴 (Mo) 14.0-17.0%, 철 (Fe) 최대 3.0%, 탄소 (C) 최대 0.01%,실리콘 (Si) 최대 00.08%, 마간스 (Mn) 최대 1.0%, 코발트 (Co) 최대 2.0%, 황 (S) 최대 0.010%, 인화 (P) 최대 0.025%, 티타늄 (Ti) 최대 0.70%.

하스텔로이 C4 스트립의 용접 성능은 무엇입니까?
Hastelloy C4 스트립은 다양한 용접 과정으로 용접 될 수 있습니다. 예를 들어 텅프램 전극 무활 가스 용접, 플라스마 활 용접, 수동 하위 활 용접,금속 비활성 가스 용접 및 녹기 비활성 가스 용접.